出版社：中国矿业大学出版社
年代：2020
定价：45.0
本书为科学技术著作，共分为6章，主要内容包含：绪论，Fe-Si复合镀层制备研究方案，无磁场下Fe-Si镀层的制备，水平磁场下制备Fe-Si复合镀层，竖直强磁场下制备Fe-Si复合镀层，以及磁场下电化学研究电沉积铁过程等。全书内容丰富、层次清晰、图文并茂、论述有据、深入浅出，所述内容具有前瞻性、先进性和实用性。本书可供从事高硅钢薄带制备、电磁冶金、表面改性、新材料制备等研究方向的人员使用，亦可供相关企业技术人员参考使用。
| 书籍详细信息 | |||
| 书名 | 磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层站内查询相似图书 | ||
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| 出版地 | 徐州 | 出版单位 | 中国矿业大学出版社 |
| 版次 | 1版 | 印次 | 1 |
| 定价(元) | 45.0 | 语种 | 简体中文 |
| 尺寸 | 26 × 18 | 装帧 | 平装 |
| 页数 | 印数 | ||
磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层是中国矿业大学出版社于2020.9出版的中图分类号为 TG13 的主题关于 含硅合金－镀层－材料制备 的书籍。