衍射极限附近的光刻工艺

书籍简介:

本书将对光刻从设备、材料和工艺以及工艺仿真作一个全面的展示。尤其将针对临近衍射极限的光刻技术，比如193 nm浸没式光刻技术作一个重点地阐述。针对国内缺乏的光刻设备和先进光化学材料的技术情况下，本书试图在深度上有所突破，比如在光刻机的结构设计，校准，以及各主要零部件所应该达到的尺寸规格和机械精度、测控性能作深入的探讨。

书籍规格:

书籍信息归属:

衍射极限附近的光刻工艺是清华大学出版社于2019.12出版的中图分类号为 TN305.7 的主题关于 光刻设备－研究 的书籍。