镓扩散技术

镓扩散技术

刘秀喜, 著

出版社:天津科学技术出版社

年代:2009

定价:24.0

书籍简介:

本书共分十四章,阐述了镓杂质效应,镓的扩散模型、扩散特性和掺杂效应,镓及镓铝、镓硼双质掺杂改善器件性能的机理。叙述了镓及镓铝的开管扩散技术在半导体器件生产中的应用,影响镓掺杂的因素和提高扩散质量的主要途径。

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9787530854723
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出版地天津出版单位天津科学技术出版社
版次1版印次1
定价(元)24.0语种简体中文
尺寸21 × 14装帧平装
页数印数 1000

书籍信息归属:

镓扩散技术是天津科学技术出版社于2009.12出版的中图分类号为 O614.37 的主题关于 镓-扩散-研究 的书籍。