树形高分子潜指纹显现技术

第1章 指纹显现技术概况

1.1 指纹分类及组成

1.1.1 指纹分类

1.1.2 指纹组成

1.2 指纹显现历史

1.3 传统指纹显现方法概述

1.3.1 物理显现法

1.3.2 化学显现法

1.3.3 光学显现法

1.3.4 仪器检验法

1.3.5 光致发光法

1.4 指纹技术发展趋势

参考文献

第2章 聚酰胺—胺树形高分子显现指纹

2.1 聚酰胺—胺树形高分子简介

2.2 聚酰胺—胺树形高分子荧光性能研究

2.2.1 激发波长的影响

2.2.2 浓度的影响

2.2.3 pH的影响

2.2.4 浓度的影响

2.3 荧光性聚酰胺—胺树形高分子显现指纹

2.3.1 pH的影响

2.3.2 浓度的影响

2.3.3 浸泡时间的影响

2.3.4 PAMAM树形高分子代数的影响

2.3.5 陈旧时间的影响

2.3.6 激发光源的影响

2.3.7 显现率考察

2.4 结论与展望

参考文献

第3章 CdS量子点∕树形高分子纳米复合材料显现指纹

3.1 引言

3.2 Cd2+∕PAMAM树形高分子络合作用研究

3.2.1 配位平衡时间的测定

3.2.2 温度对平衡时间的影响

3.2.3 pH对络合体系的影响

3.2.4 PAMAM与Cd2+离子最大饱和配位数的确定

3.2.5 PAMAM与Cd2+配合物红外光谱图

3.2.6 PAMAM与Cd2+配合物结构图

3.3 CdS∕PAMAM树形高分子纳米复合材料的制备

3.3.1 制备原理

3.3.2 溶剂的影响

3.3.3 PAMAM树形高分子端基类型的影响

3.3.4 负载比的影响

3.3.5 CdS量子点与PAMAM树形高分子间的相互作用

3.4 CdS∕PAMAM树形高分子纳米复合材料显现指纹

3.4.1 溶剂的影响

3.4.2 指纹陈旧时间的影响

3.4.3 高负载比的影响

3.4.4 Cd2+离子与PAMAM树形高分子负载比的影响

3.4.5 PAMAM树形高分子端基类型的影响

3.5 结论与展望

参考文献

第4章 CdSe量子点∕树形高分子纳米复合材料显现指纹

4.1 引言

4.2 CdSe量子点∕PAMAM树形高分子纳米复合材料的制备

4.2.1 制备过程及原理

4.2.2 溶剂的影响

4.2.3 端基类型的影响

4.2.4 PAMAM树形高分子代数的影响

4.2.5 pH的影响

4.2.6 Cd2+离子与PAMAM树形高分子负载比的影响

4.2.7 金属离子的影响

4.3 CdSe量子点∕PAMAM树形高分子纳米复合材料显现指纹

4.3.1 激发波长的影响

4.3.2 滤光片的影响

43.3 金属离子的影响

4.4 结论与展望

参考文献

第5章 树形高分子潜指纹显现原理

5.1 引言

5.2 化学偶联

5.21 —NH2端基

5.2.2 —COOCH3端基

5.3 物理吸附

5.4 化学偶联与物理吸附综合作用

5.5 结论与展望

参考文献

附录

《树形高分子潜指纹显现技术》交叉融汇了多个学科，包括材料学、化学、光学、纳米学、刑侦学等，可供公安系统刑侦人员以及其他从事指纹显现的科研人员参考，也可供从事超支化聚合物、树形高分子或量子点制备、研究的技术人员参考。《树形高分子潜指纹显现技术》系统介绍了树形高分子这种近年来新发展起来的新型高分子在潜指纹显现中的应用研究。详细介绍了传统的指纹显现方法、存在的问题、树形高分子的优势及其在指纹显现领域的最新应用成果，包括聚酰胺—胺树形高分子自身荧光性能的研究及其在指纹显现中的应用，以聚酰胺—胺树形高分子为模板合成的CdS量子点∕树形高分子纳米复合材料、CdSe量子点∕树形高分子纳米复合材料的制备、结构性能表征以及指纹显现规律，并对显现指纹的原理进行了论述。