出版社:东北大学出版社
年代:2019
定价:48.0
本书主要结合作者在该领域的研究成果,介绍了获得高质量自支撑GaN单晶的方法。第二三章介绍了衬底及V/III对GaN单晶生长动力学及晶体质量的影响,优化了GaN单晶生长工艺;第四五章介绍了采用低温缓冲层技术分别在并在蓝宝石和SiC衬底上生长获得自支撑GaN单晶的方法;第六章介绍了高温退火法在表征GaN单晶位错方面的应用,第七八章在第六章的基础上提出了高温退火法处理衬底,获得自支撑GaN单晶的方法;第九章介绍了对衬底进行两步腐蚀获得自支撑GaN单晶的方法。
书籍详细信息 | |||
书名 | HVPE法生长自支撑GaN单晶及其性质研究站内查询相似图书 | ||
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出版地 | 沈阳 | 出版单位 | 东北大学出版社 |
版次 | 1版 | 印次 | 1 |
定价(元) | 48.0 | 语种 | 简体中文 |
尺寸 | 26 × 18 | 装帧 | 平装 |
页数 | 印数 |
HVPE法生长自支撑GaN单晶及其性质研究是东北大学出版社于2019.9出版的中图分类号为 O782 的主题关于 单晶-晶体生长-研究 的书籍。