出版社:哈尔滨工业大学出版社
年代:2013
定价:68.0
化合物半导体加工中的表征一书是为使用化合物半导体材料与设备的科学家与工程师准备的,他们并不是表征专家。在研发与GaAs、GaA1As、LnP及HgCdTe基设备的制造中通常使用的材料与工艺提供常见的分析问题实例。这本书讨论了各种表征技术,深入了解每种技术是如何单独或结合使用来解决与材料相关的问题。这本书有助于选择并应用适当的分析技术在材料与设备加工的各个阶段,如:基体处理、外延生长、绝缘膜沉积、接触组、掺杂剂的引入。
Preface to the Reissue of the Materials Characterization Series ix
Preface to Series x
Preface to the Reissue of Characterization of Compound
Semiconductor Processing xi
Preface xiii
Contributors xv
CHARACTERIZATION OF III—V THIN FILMS FOR
ELECTRONIC DEVICES
III—V COMPOUND SEMICONDUCTOR FILMS FOR
OPTICAL APPLICATIONS
CONTACTS
DIELECTRIC INSULATING LAYERS
OTHER COMPOUND SEMICONDUCTOR FILMS
DEEP LEVEL TRANSIENT SPECTROSCOPY: A CASE STUDY
ON GaAs
APPENDIX: TECHNIQUE SUMMARIES
《化合物半导体加工中的表征(英文)》的主要内容包括: Preface to the Reissue of the Materials Characterization Series ix;Preface to Series x;Preface to the Reissue of Characterization of CompoundSemiconductor Processing xi;Preface xiii;Contributors xv等。
书籍详细信息 | |||
书名 | 化合物半导体加工中的表征站内查询相似图书 | ||
丛书名 | 材料表征原版系列丛书 | ||
9787560342818 如需购买下载《化合物半导体加工中的表征》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息,请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN | |||
出版地 | 哈尔滨 | 出版单位 | 哈尔滨工业大学出版社 |
版次 | 1版 | 印次 | 1 |
定价(元) | 68.0 | 语种 | 英文 |
尺寸 | 23 × 16 | 装帧 | 平装 |
页数 | 印数 |
化合物半导体加工中的表征是哈尔滨工业大学出版社于2013.11出版的中图分类号为 TN304.2 的主题关于 化合物半导体-半导体材料-研究-英文 的书籍。