出版社:科学出版社
年代:2017
定价:88.0
本书主要介绍了现代集成电路中互连线的研究现状和难题,系统讨论了为应对这些难题而提出的一些新型互连技术。本文主要讨论的新型互连技术包括碳纳米互连和硅通孔技术两种,其中前者利用碳纳米材料优良的物理特性构造片上纳米互连线,以延续摩尔定律;后者则用于实现芯片的三维堆叠,从而突破摩尔定律限制,实现更高附加价值的系统。最后,本文将简要总结和展望,介绍一些其他新型互连技术,如光互连等。
书籍详细信息 | |||
书名 | 后摩尔时代集成电路新型互连技术站内查询相似图书 | ||
9787030534187 如需购买下载《后摩尔时代集成电路新型互连技术》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息,请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN | |||
出版地 | 北京 | 出版单位 | 科学出版社 |
版次 | 1版 | 印次 | 1 |
定价(元) | 88.0 | 语种 | 简体中文 |
尺寸 | 24 × 17 | 装帧 | 平装 |
页数 | 212 | 印数 |