出版社:电子工业出版社
年代:2017
定价:45.0
本书主要内容包括:(1)初步掌握半导体薄膜器件的基本工艺,特别是与集成电路器件工艺过程相关知识。(2)硅基半导体衬底晶体材料的生长技术。(3)各种半导体薄膜材料常用的制备技术,如:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、分子束外延(MBE)、液相外延(LPE)、各种溅射沉积技术等,需要重点掌握这些制备技术的特点、工作原理和工艺过程,以及在薄膜生长过程中的热力学、动力学知识等,(4)了解和掌握各种半导体薄膜微观结构的表征技术。
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书名 | 半导体薄膜技术基础站内查询相似图书 | ||
9787121328800 如需购买下载《半导体薄膜技术基础》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息,请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN | |||
出版地 | 北京 | 出版单位 | 电子工业出版社 |
版次 | 1版 | 印次 | 1 |
定价(元) | 45.0 | 语种 | 简体中文 |
尺寸 | 26 × 19 | 装帧 | 平装 |
页数 | 印数 |
半导体薄膜技术基础是电子工业出版社于2018.2出版的中图分类号为 TN304.055 的主题关于 半导体薄膜技术-高等学校-教材 的书籍。