共掺杂p型ZnO薄膜和ZnCdO合金薄膜的制备及其性能研究

书籍简介:

本书主要是通过射频磁控溅射的方法，针对共掺杂p型ZnO薄膜和ZnCdO合金薄膜的制备和性能开展研究工作，利用N2/O2、Ar/O2作为溅射气体来制备B-N和P-N共掺的P型ZnO薄膜，并对其结构、光学及电学性能进行表征。同时，系统地研究了退火温度、退火气氛对薄膜的结构、性能的影响，阐明了共掺杂ZnO薄膜的P型导电机制。利用Ar/O2作为溅射气体制备了ZnCdO薄膜，并对其结构、光学及电学性能进行表征。系统地探讨了衬底温度、Cd含量对薄膜的结构、光电性能的影响规律及机制。本书可作为大中专院校半导体物理与器件相关专业的参考书，对从事ZnO半导体材料为基础制备的各种器件的从业人员有重要的指导意义。

书籍规格:

书籍信息归属:

共掺杂p型ZnO薄膜和ZnCdO合金薄膜的制备及其性能研究是吉林大学出版社于2016.11出版的中图分类号为 TF8 的主题关于 金属薄膜－研究 的书籍。