薄膜晶体管原理及应用

薄膜晶体管原理及应用

董承远, 编著

出版社:清华大学出版社

年代:2016

定价:79.0

书籍简介:

本书以非晶硅薄膜晶体管(a—Si TFT)和多晶硅薄膜晶体管(p—Si TFT)为例详细讲解了与TFT技术相关的材料物理和器件物理及其在平板显示中的应用原理。

作者介绍:

董承远,现执教于上海交通大学电子工程系。主要研究方向为薄膜晶体管(TFT)工艺、器件与电路及其在平板显示(FPD)中的应用。2003年7月于上海交通大学获工学博士学位。 作为上海光电NEC液晶显示器有限公司早期工程师之一,曾赴日学习过TFT工艺技术,后来又参与了国内TFT-LCD生产线的开创工作。2006年离开SVA-NEC后先后在昆山龙腾光电有限公司和上海天马微电子有限公司从事过TFT-LCD产品设计和新技术开发的工作。值得一提的是,作者在上述这些平板显示公司工作时负责一些针对年轻工程师的技术培训工作。 从2009年至今,作者先后在上海交通大学电子工程系开设了《显示电子学》(研究生选修课)、《薄膜晶体管原理及应用》(本科生必修课)和《薄膜晶体管技术》(工程硕士必修课)等几门与TFT技术相关的课程。

书籍目录:

第1章绪论

1.1薄膜晶体管发展简史

1.2薄膜晶体管的技术分类及比较

1.3薄膜晶体管的应用简介

1.4本书的主要内容及架构

习题

参考文献

第2章平板显示的有源矩阵驱动

2.1平板显示简介

2.1.1显示技术的分类及特性指标

2.1.2平板显示的定义和分类

2.1.3液晶显示器件的基本原理

2.1.4有机发光二极管显示的基本原理

2.2液晶显示的有源矩阵驱动

2.2.1液晶显示的静态驱动和无源矩阵驱动简介

2.2.2AMLCD像素电路的充放电原理

2.2.3AMLCD像素阵列的相关原理

2.2.4液晶显示有源矩阵驱动的特殊方法

2.2.5液晶显示有源矩阵驱动的技术要求

2.3有机发光二极管显示的有源矩阵驱动

2.3.1有机发光二极管显示的无源矩阵驱动简介

2.3.2有机发光二极管显示的有源矩阵驱动基本原理

2.3.3有机发光二极管有源矩阵驱动的技术要求

2.4本章小结

习题

参考文献

第3章薄膜晶体管材料物理

3.1非晶硅材料物理

3.1.1非晶体简介

3.1.2非晶硅材料结构

3.1.3非晶硅电学特性

3.2多晶硅材料物理

3.2.1多晶体简介

3.2.2多晶硅材料结构

3.2.3多晶硅电学特性

3.3薄膜晶体管绝缘层材料

3.3.1绝缘层介电特性

3.3.2绝缘层漏电特性

3.3.3氮化硅薄膜

3.3.4氧化硅薄膜

3.4薄膜晶体管电...

内容摘要:

作为薄膜晶体管(TFT)技术的入门教材,本书以非晶硅薄膜晶体管(aSi TFT)和多晶硅薄膜晶体管(pSi TFT)为例详细讲解了与TFT技术相关的材料物理、器件物理和制备工艺原理及其在平板显示中的应用原理等。本书共分7章。第1章简单介绍了薄膜晶体管的发展简史;第2章详细阐述了TFT在平板显示有源矩阵驱动中的应用原理;第3章深入讲解了薄膜晶体管相关的半导体、绝缘体和电极材料物理;第4章详细阐述了非晶硅TFT和多晶硅TFT器件物理的相关基础知识;第5章系统介绍了TFT制备的单项工艺原理;第6章仔细讲解了非晶硅TFT阵列和多晶硅TFT阵列工艺整合原理;第7章简单总结全书并展望了以aIGZO TFT为代表的非晶氧化物薄膜晶体管技术的发展趋势。每章后附有习题,可供课堂练习或课后作业使用。本书适合于作为大学本科生和研究生相关课程的教材,也适合针对从事TFT技术相关工作的工程技术人员作为技术培训和在职进修的教材或参考书籍。

编辑推荐:

“本书缘起于2008年底,是时本书作者刚离开奋斗了5年的平板显示产业界并加入到上海交通大学电子工程系。在着手开展氧化物TFT相关科研工作的同时,我也决心在上海交通大学开设与薄膜晶体管技术相关的本科和研究生课程。”
董承远现执教于上海交通大学电子工程系。主要研究方向为薄膜晶体管(TFT)工艺、器件与电路及其在平板显示(FPD)中的应用。2003年7月于上海交通大学获工学博士学位。2003年至2008年先后在上海广电NEC、昆山龙腾光电和上海天马等国内几家主要平板显示制造企业从事与TFT相关的工艺开发、产品设计和新技术研发工作等。
本书填补了国内薄膜晶体管技术教材领域的空白。内容定位于讲解和阐述与薄膜晶体管技术相关的基础原理,包括材料物理、器件物理、工艺原理和实际应用原理等;读者定位是大专院校的本科生和研究生以及平板显示产业界无相关基础的工程师等。
本书作者结合自身的教学实际经验,在内容讲解顺序上另辟蹊径,即按照从应用原理到器件物理再到工艺原理的顺序阐述。具体而言,先从薄膜晶体管在平板显示的有源矩阵中的应用原理讲起,并由此引出实际应用对TFT器件特性的基本要求;接着便详细阐述了薄膜晶体管相关的材料物理和器件物理,并由此确定了TFT工艺的技术目标,其中非晶硅/多晶硅禁带缺陷态的产生机理和分布特点以及TFT器件的理论模型和特性参数提取方法等内容为着重阐述之处;第三部分,重点讲解了薄膜晶体管阵列的单项工艺原理和工艺整合原理,其中非晶硅TFT的5MASK工艺流程和多晶硅TFT的6MASK工艺流程正是当前产业界的主流技术。
虽然本书以非晶硅/多晶硅薄膜晶体管技术的相关原理作为主要阐述目标,作者结合自身在产业界的实际工作经验对TFT实际生产中的相关实务也多有涉及。此外,在本书的结尾处作者还根据自身的研究经验对当前比较热门的以a-IGZOTFT为代表的非晶氧化物薄膜晶体管(AOSTFT)技术进行了简单的总结和展望。

书籍规格:

书籍详细信息
书名薄膜晶体管原理及应用站内查询相似图书
9787302430001
如需购买下载《薄膜晶体管原理及应用》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息,请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN
出版地北京出版单位清华大学出版社
版次1版印次1
定价(元)79.0语种简体中文
尺寸26 × 19装帧平装
页数印数 2000

书籍信息归属:

薄膜晶体管原理及应用是清华大学出版社于2016.出版的中图分类号为 TN321 的主题关于 薄膜晶体管-高等学校-教材 的书籍。