出版社：陕西科学技术出版社
年代：2010
定价：30.0
本书利用CVD动态分析系统，以MTS/H2体系为对象，通过建立化学反应模型，探索了气相沉积碳化硅的机理。
| 书籍详细信息 | |||
| 书名 | 化学气相沉积碳化硅的规律研究站内查询相似图书 | ||
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| 出版地 | 西安 | 出版单位 | 陕西科学技术出版社 |
| 版次 | 1版 | 印次 | 1 |
| 定价(元) | 30.0 | 语种 | 简体中文 |
| 尺寸 | 26 × 19 | 装帧 | 平装 |
| 页数 | 印数 | 1000 | |
化学气相沉积碳化硅的规律研究是陕西科学技术出版社于2010.7出版的中图分类号为 TB321 ,TF111.34 的主题关于 化学气相沉积－碳化硅陶瓷 的书籍。