化学气相沉积碳化硅的规律研究

化学气相沉积碳化硅的规律研究

卢翠英, 著

出版社:陕西科学技术出版社

年代:2010

定价:30.0

书籍简介:

本书利用CVD动态分析系统,以MTS/H2体系为对象,通过建立化学反应模型,探索了气相沉积碳化硅的机理。

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9787536948648
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出版地西安出版单位陕西科学技术出版社
版次1版印次1
定价(元)30.0语种简体中文
尺寸26 × 19装帧平装
页数印数 1000

书籍信息归属:

化学气相沉积碳化硅的规律研究是陕西科学技术出版社于2010.7出版的中图分类号为 TB321 ,TF111.34 的主题关于 化学气相沉积-碳化硅陶瓷 的书籍。