微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用

《纳米科学与技术》丛书序

前言

第1章 光学曝光

1.1 光学曝光系统的基本组成

1.2 光学曝光的基本原理与特征

1.2.1 光学曝光的基本模式与原理

1.2.2 光学曝光的过程

1.2.3 分辨率增强技术

1.3 短波长光学曝光技术

1.3.1 深紫外与真空紫外曝光技术

1.3.2 极紫外曝光技术

1.3.3 X射线曝光技术

1.3.4 LIGA加工技术

1.4 光学曝光加工纳米结构

1.4.1 泊松亮斑纳米曝光技术

1.4.2 表面等离激元纳米曝光技术

1.4.3 基于双层图形技术的纳米加工

1.5 光学曝光加工三维微纳结构

1.5.1 灰度曝光技术

1.5.2 基于欠曝光的三维曝光技术

1.5.3 基于菲涅耳衍射与邻近效应的三维曝光技术

参考文献

第2章 电子束曝光技术

2.1 电子束曝光系统组成

2.1.1 电子枪

2.1.2 透镜系统

2.1.3 电子束偏转系统

2.2 电子束曝光系统的分类

2.2.1 扫描模式

2.2.2 束形成

2.3 电子束抗蚀剂

2.3.1 电子束抗蚀剂的性能指标

2.3.2 电子束抗蚀剂制作图形工艺

2.3.3 常用电子束抗蚀剂及其工艺过程

2.3.4 特殊的显影工艺

2.3.5 多层抗蚀剂工艺

2.3.6 理想抗蚀剂剖面的加工

2.4 电子束与固体的相互作用及邻近效应

2.4.1 电子束与固体的相互作用

2.4.2 邻近效应及校正

2.5 充电效应及解决方法

2.5.1 引入导电膜

2.5.2 变压电子束曝光系统

2.5.3 临界能量电子束曝光

2.6 三维结构的制备

2.6.1 平整衬底上三维结构的加工

2.6.2 三维衬底上图形的制备

2.7 电子束曝光分辨率

2.8 新型的电子束曝光技术

2.8.1 投影电子束曝光

2.8.2 微光柱阵列电子束曝光

2.8.3 反射电子束曝光

参考文献

第3章 聚焦离子束加工技术

3.1 聚焦离子束系统的基本组成

3.2 聚焦离子束的基本功能与原理

3.2.1 离子束成像

3.2.2 离子束刻蚀

3.2.3 离子束辅助沉积

3.2.4 FIB的传统应用

3.3 聚焦离子束的三维纳米加工

3.3.1 FIB刻蚀加工三维结构

3.3.2 FIB沉积加工三维结构

3.3.3 FIB辐照加工直维结构

参考文献

第4章 激光加工技术

第5章 纳米压印技术

第6章 刻蚀技术

第7章 薄膜技术

第8章 自组装加工

第9章 微纳加工在电学领域的应用

第10章 微纳加工在光学领域的应用

第11章 微纳加工在磁学领域的应用

第12章 微纳加工在其他领域的应用

《纳米科学与技术：微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用》共分十二章，第1-8章分类介绍了几种主要的微纳加工技术，包括：光学曝光、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、激光加工技术、纳米压印技术、离子束技术、薄膜技术和自组装加工，即简要概述了各种加工方法的科学基础，又从实用出发，介绍了各种技术的主要工艺过程，特别涉及各种技术根据需要全新发展的一些创新方法；第9－12章按几个不同的领域，介绍了微纳加工技术在纳米材料与器件研究中的一些应用实例，包括电学、光学、磁学、生物等其它领域。这些成果深刻影响了当前纳米科学与技术的发展，希望能对从事相关领域研究的读者有所启发和借鉴。