出版社：江西科学技术出版社
年代：2012
定价：30.0
本书是关于在玻璃基片温度400℃和650℃之间，于准冷壁反应器进行常压化学气相沉积的研究。讨论了TiCl4-NH3-H2体系TiN常压化学气相沉积（APCVD）的动力学。此外，本书还研究了沉积条件对TiN薄膜生长速度及其性能的影响。按照本书中方法制备的厚膜具有79%—90%的红外反射率，在可见光区域具有良好的中性色调，是良好的调光隔热薄膜。
| 书籍详细信息 | |||
| 书名 | TiN薄膜常压化学气相沉积的研究站内查询相似图书 | ||
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| 出版地 | 南昌 | 出版单位 | 江西科学技术出版社 |
| 版次 | 1版 | 印次 | 1 |
| 定价(元) | 30.0 | 语种 | 简体中文 |
| 尺寸 | 26 × 19 | 装帧 | 平装 |
| 页数 | 印数 | 1000 | |