薄膜晶体管液晶显示器件的制造、测试与技术发展

前言

上篇TFT-LCD技术基础

第1章TFT-LCD的结构及其产品应用

1．1液晶显示技术的发展历程

1．2TFT-LCD的原理与结构介绍

1．3主要零组件介绍

1．3．1玻璃

1．3．2彩色滤光片

1．3．3偏振片

1．3．4驱动与控制IC

1．3．5背光源

1．4TFT-LCD产品应用

1．4．1便携式移动产品

1．4．2桌面显示器

1．4．3电视机

1．4．4特殊工业、航空、医疗用途

1．4．5公共显示领域

参考文献

第2章TFT-LCD制造工艺过程

2．1TFT-LCD制备工艺流程综述

2．2TFT阵列工艺及设备

2．2．1有源矩阵显示器件简介

2．2．2a-Si：HTFT器件结构及工艺流程简介

2．2．3TFT阵列工艺及设备

2．3成盒工艺

2．3．1LCCELL的结构及CELL工艺流程综述

2．3．2主要成盒工艺介绍

2．4模块工艺流程

2．4．1模块的结构及工艺流程综述

2．4．2偏振片贴覆工程

2．4．3ACF贴覆工艺

2．4．4TCP和PCB连接工艺

2．4．5TFT-LCD模块引线连接技术

参考文献

第3章TFT-LCD产品性能及其测试方法

3．1产品性能测试基础

3．2分辨率

3．3亮度与亮度均匀性

3．4对比度及对比度均匀性

3．4．1对比度及对比度均匀性测量

3．4．2对比度的影响因素和提高方法

3．5响应时间

3．5．1响应时间介绍

3．5．2灰阶响应时间

3．5．3如何提高TFT-LCD的响应速度

3．5．4移动图像响应速度

3．6可视角度范围

3．6．1视角的测量方法

3．6．2宽视角技术

3．7色再现性

3．7．1定义

3．7．2色再现性测量方法

3．8功率消耗

3．9串扰

3．10闪烁

3．11视觉检查项目

3．11．1残像

3．11．2与显示图像信息不直接相关的视觉检查项目

3．12可靠性测试

3．13测试方法的标准化情况

参考文献

下篇平板显示技术发展

引子

第4章低温多晶硅技术

4．1p-SiTFTTFT技术简介

4．1．1像素驱动用p-SiTFT器件结构及其特点

4．1．2周边驱动p-SiTFT结构和特点

4．1．3p-SiTFT-LCD

4．2p-SiTFT材料及其制备方法

4．2．1金属诱导法制备多晶硅薄膜

4．2．2激光退火制备多晶硅

4．2．3p-SiTFT的霍尔迁移率测量及测量原理

4．3p-SiTFT及其器件特性

4．3．1多晶硅TFT的电学特性

4．3．2p-SiTFT-LCD器件特性

参考文献

第5章LCD背光技术发展

5．1LCD背光技术

5．1．1背光源简介

5．1．2背光源产业状况

5．1．3背光源各结构和部件介绍

5．1．4背光源光学设计

5．1．5V-Cut导光板的设计

5．2新型LCD背光源LED背光源

5．2．1冷阴极荧光管的缺点

5．2．2LED简介

5．2．3LED特性

5．2．4LED驱动

5．2．5LED背光设计案例

5．2．6基于LED背光技术发展的新型液晶显示技术

参考文献

第6章有机发光显示与柔性显示技术

6．1有机发光二极管显示技术

6．1．1OLED简介

6．1．2OLED器件

6．1．3OLED制备工艺

6．1．4OLED像素及其驱动

6．1．5OLED技术展望

6．2柔性显示技术

6．2．1柔性显示技术介绍

6．2．2电子纸显示技术

参考文献

附录缩略语中英文对照表

　　本书介绍了薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）的结构、制造工艺过程、性能及其测试方法以及在该领域的新技术发展。本书上篇包括TFT-LCD产品的各组成部件的结构、性能、制造方法，原理及设备，TFT-LCD产品的主要性能指标要求及其测试方法等；下篇为技术发展介绍，模组部分的LED背光源技术以及研究领域比较热门的有机发光显示和柔性显示技术。本书可作为光电子、电子工程、光学、材料等相关领域本科或硕士研究生的拓展读本。　　本书从产业人员的角度介绍了薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）的结构、制造工艺过程、性能及其测试方法以及在该领域的新技术发展。本书上篇为TFI-LCD技术基础，包括TFT-LCD产品的各组成部件的结构、性能、制造方法，TFT-LCD产品制造过程的阵列、成盒、模组三大主要工艺流程的基本过程、原理及设备，TFT-LCD产品的主要性能指标要求及其测试方法。下篇为技术发展介绍，包括阵列部分的低温多晶硅技术、模组部分的LED背光源技术以及研究领域比较热门的有机发光显示和柔性显示技术。