等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用

书籍简介:

系统性回顾了过去半个世纪干法蚀刻技术的演变，深入介绍了该技术的基本机理，在逻辑产品和闪存产品中的具体应用以及对于逻辑电路可靠性影响的系统分析。同时针对特殊气体和特种材料的蚀刻应用进行了展望；最后以高等过程蚀刻控制重要性及其在集成电路制造中应用的必要性结尾；

书籍规格:

书籍信息归属:

等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用是清华大学出版社于2018.出版的中图分类号为 TN405.98 的主题关于 大规模集成电路－集成电路工艺－等离子刻蚀 的书籍。