晶圆级3D IC工艺技术

晶圆级3D IC工艺技术

(新加坡) 陈全胜 (Chuan Seng Tan) , (美) 罗纳德·J.古特曼 (Ronald J. Gutmann) , (美) L.拉斐尔·赖夫 (L. Rafael Reif) , 著

出版社:中国宇航出版社

年代:2016

定价:88.0

书籍简介:

本书是一部系统论述3D集成工艺技术的译著,内容涵盖前端工艺至后端工艺,详细介绍了各种3D集成技术的适用范围和局限性,列举了相关工艺的典型应用和潜在应用,并指出了这些关键工艺中存在的问题与挑战。本书适合从事立体集成、集成电路/微系统、先进封装技术研究的工程技术人员以及管理人员阅读和使用,同时也可作为高等院校相关专业师生的参考教材。

书籍规格:

书籍详细信息
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9787515912035
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出版地北京出版单位中国宇航出版社
版次1版印次1
定价(元)88.0语种简体中文
尺寸21 × 15装帧精装
页数印数

书籍信息归属:

晶圆级3D IC工艺技术是中国宇航出版社于2016.10出版的中图分类号为 TN405 的主题关于 集成电路工艺 的书籍。