含硅聚合物

含硅聚合物

(美) 琼斯 (Jones,R.G.) , (日) 安藤亘, (波兰) 乔努斯基 (Chojnowski,J.) , 著

出版社:化学工业出版社

年代:2007

定价:60.0

书籍简介:

本书比较系统地介绍了含硅聚合物(含硅高聚物)的基础理论和应用技术。包括聚硅氧烷和聚硅氮烷、聚硅烷及相关聚合物的合成、改性技术、结构与性能、以及应用等技术等。

书籍目录:

第1篇聚硅氧烷

第1章线型聚硅氧烷的合成

第2章有机硅嵌段和接枝共聚物

第3章侧基改性聚硅氧烷

第4章硅氧烷共聚物网络和硅氧烷互穿聚合物网络

第5章有机硅弹性体的制备与性能

第6章聚倍半硅氧烷

第7章聚硅氧烷的热性能

第8章表面性质和应用

第9章聚硅氧烷的应用方向与展望

第2篇聚碳硅烷和聚硅氮烷

第10章聚碳硅烷

第11章聚硅氮烷

第3篇聚硅烷及相关聚合物

第12章武兹还原?偶合法合成聚硅烷

第13章聚硅烷合成新方法:开环聚合和掩蔽二硅烯聚合

第14章聚硅烷合成新方法:含氢硅烷的催化脱氢聚合

第15章聚硅烷的改性与官能化

第16章硅氢化反应和硅烷化反应在有机硅聚合物合成中的应用

第17章σ与π共轭有机硅聚合物

第18章聚硅烷的电子结构与光谱学

第19章聚硅烷在器件应用中的光电性质

第20章聚硅烷的热性质和相行为

第21章含硅乙烯基单体及聚合物

第22章含硅液晶高分子

第23章有机硅树枝状大分子极具潜力的分子

第24章光学活性含硅聚合物

第25章有机硅酸酯低聚物和纳米结构材料

第26章陶瓷前驱体聚合物衍生硅氧碳化物

第27章含硅单体的等离子体工艺

第28章有机硅聚合物在微平版印刷中的应用

内容摘要:

  本书共分4篇。前3篇介绍了聚硅氧烷、聚碳硅烷和聚硅氮烷、聚硅烷及相关聚合物的合成、改性技术,结构与性能,以及应用技术等;第4篇介绍了含硅聚合物面临的挑战以及令人感兴趣的领域,包括含硅乙烯基单体及聚合物、有机硅高分子液晶、有机硅树枝状大分子、光学活性有机硅聚合物、有机硅酸酯低聚物与纳米结构材料等。本书可供从事有机硅科研、生产、应用的技术人员阅读,也可作为相关院校师生的教材或参考书。  该书参考了相关领域若干知名专家的研究成果,比较系统地介绍了含硅聚合物的合成及应用技术。全书共分4篇。前3篇介绍了聚硅氧烷、聚碳硅烷和聚硅氮烷、聚硅烷及相关聚合物的合成、改性技术,结构与性能,以及应用技术等;第4篇介绍了含硅聚合物面临的挑战以及令人感兴趣的领域,包括含硅乙烯基单体及聚合物、有机硅高分子液晶、有机硅树枝状大分子、光学活性有机硅聚合物、有机硅酸酯低聚物与纳米结构材料等。  该书既有基础理论,又涉及大量的应用实例,是一本较全面的有机硅专著,可供从事有机硅科研、生产、应用的技术人员阅读,也可作为相关院校师生的教材或参考书。

书籍规格:

书籍详细信息
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9787122017246
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出版地北京出版单位化学工业出版社
版次1版印次1
定价(元)60.0语种简体中文
尺寸19装帧平装
页数印数

书籍信息归属:

含硅聚合物是化学工业出版社于2008.01出版的中图分类号为 O634.4 的主题关于 含硅高聚物 的书籍。