摄影曝光控制

摄影曝光控制

于文灏, 著

出版社:上海人民美术出版社

年代:2010

定价:35.0

书籍简介:

本书为一本摄影类高等教材,讲解摄影基础知识。

书籍目录:

1曝光的控制与评价系统曝光的技术控制系统曝光的评价手段2曝光对画面效果的影响对色彩的影响对颗粒度(噪点)的影响对细节层次的影响对反差的影响对胶片互易律的影响3测光测光表与基准反光率量光与订光单一光源照明的量光技巧混合光源照明的量光技巧4拍摄阶段的曝光控制正确曝光与;隹确曝光影响曝光的技术因素实用区域曝光法5后期处理阶段的“曝光”控制摄影胶片的后期处理JPEG、TlFF、RAW格式比较RAW格式影像文件的后期处理6闪光摄影的曝光控制自动闪光测曝光模式与相机曝光模式的配合方式闪光同步与高/低速闪光摄影7创造性的控制曝光多次曝光长时间曝光配合频闪光绘

内容摘要:

  《摄影曝光控制》是中国高等院校摄影专业系列教材之一。  本书包含了“技术性正确曝光”和“创意性准确曝光”两方面的内容。阅读本书能够让读者在学习曝光的物理原理的同时了解到控制暴光是摄影师在摄影创作中实现主观创作意图的重要手段。   曝光是摄影成像的物理基础,控制曝光是摄影师在摄影创作中实现主观创作意图的重要手段。摄影的曝光控制是一项复杂的系统工作,不能被简单置于纯技术语境中加以研究,而应将其提高到艺术创作的层面进行综合分析和应用。因此,摄影曝光控制包含了“技术性正确曝光”和“创意性准确曝光”两方面的内容。【作者简介】于文灏2001年本科毕业于北京电影学院摄影系,获学士学位;2002年留学英国,毕业于肯特艺术与设计学院摄影系,获肯特大学与肯特艺术与设计学院联合颁发的硕士学位;毕业作品《VisionsofChina》在英国主流摄影刊物《Photoworks》上发表,并于2008年受荷兰Noortlight摄影基金会邀请,在荷兰历史悠久的摄影画廊NoortlightPhotogallery展出;摄影专著《人像摄影》一书,已由人民美术出版社出版发行;2005年至今担任上海交通大学媒体与设计学院讲。

书籍规格:

书籍详细信息
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9787532270880
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出版地上海出版单位上海人民美术出版社
版次1版印次1
定价(元)35.0语种简体中文
尺寸28 × 17装帧平装
页数印数

书籍信息归属:

摄影曝光控制是上海人民美术出版社于2010.12出版的中图分类号为 TB811 的主题关于 曝光-高等学校-教材 的书籍。