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光学薄膜－研究
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TiN薄膜常压化学气相沉积的研究
本书是关于在玻璃基片温度400℃和650℃之间，于准冷壁反应器进行常压化学气相沉积的研究。讨论了TiCl4-NH3-H2...
2012.12
按中图号分类
中图号G634
34677
中图号G624
18445
中图号I247.5
5816
中图号G613
5283
中图号I267
3365
中图号I227
2687
中图号J222.7
2149
中图号G634.413
1915
中图号G613.3
1760
中图号G624.753
1630
中图号G624.203
1628
中图号G613.2
1583
中图号H31
1573
中图号G624.243
1520
中图号G898.2
1411
中图号B848.4-49
1208
中图号G634.303
1207
中图号J228.2
1202
中图号G634.415
1171
中图号I287.8
1169
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