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铜－金属薄膜－氮化处理－结构－研究
2019年
2019
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磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能
磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术，其制备工艺可调剂参数较多，通过精细控制能够实现对薄膜结构...
2019.1
按中图号分类
中图号G634
18182
中图号G624
13967
中图号G613
4740
中图号I287.8
4692
中图号I247.5
4179
中图号I267
3122
中图号I227
2858
中图号G613.2
1800
中图号G613.3
1681
中图号G624.243
1681
中图号G624.203
1642
中图号I287.45
1611
中图号I287.7
1481
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中图号G898.2
1378
中图号G624.753
1267
中图号G613.7
1224
中图号G634.413
1202
中图号J228.4
1049
中图号G624.565
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