衍射极限附近的光刻工艺
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衍射极限附近的光刻工艺

伍强, 编著

出版社:清华大学出版社

年代:2019

定价:89.0

书籍简介:

本书将对光刻从设备、材料和工艺以及工艺仿真作一个全面的展示。尤其将针对临近衍射极限的光刻技术,比如193 nm浸没式光刻技术作一个重点地阐述。针对国内缺乏的光刻设备和先进光化学材料的技术情况下,本书试图在深度上有所突破,比如在光刻机的结构设计,校准,以及各主要零部件所应该达到的尺寸规格和机械精度、测控性能作深入的探讨。

书籍规格:

书籍详细信息
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丛书名高端集成电路制造工艺丛书
9787302537427
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出版地北京出版单位清华大学出版社
版次1版印次1
定价(元)89.0语种简体中文
尺寸26 × 19装帧平装
页数印数 2000

书籍信息归属:

衍射极限附近的光刻工艺是清华大学出版社于2019.12出版的中图分类号为 TN305.7 的主题关于 光刻设备-研究 的书籍。