书籍简介:

本书共分十四章，阐述了镓杂质效应，镓的扩散模型、扩散特性和掺杂效应，镓及镓铝、镓硼双质掺杂改善器件性能的机理。叙述了镓及镓铝的开管扩散技术在半导体器件生产中的应用，影响镓掺杂的因素和提高扩散质量的主要途径。

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	9787530854723 如需购买下载《镓扩散技术》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息，请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN
出版地	天津	出版单位	天津科学技术出版社
版次	1版	印次	1
定价(元)	24.0	语种	简体中文
尺寸	21 × 14	装帧	平装
页数		印数	1000

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镓扩散技术是天津科学技术出版社于2009.12出版的中图分类号为 O614.37 的主题关于镓－扩散－研究的书籍。