光场中的原子分子及激光技术

序

前言

第1章 原子多光子电离

1.1 引言

1.2 原子多光予电离与光电子角分布

1.2.1 历史回顾

1.2.2 多光子电离的基本概念

1.2.3 铷原子的光电离通道

1.2.4 线偏振光双光子电离与光电子角分布的传统测量

1.2.5 原子参数对光电子角分布的影响

1.2.6 任意偏振光双光子电离光电子角分布理论

1.3 光电子成像实验

1.3.1 光学系统

1.3.2 光电子成像系统

1.3.3 真空系统与原子束的产生

1.3.4 地球磁场的影响及消除

1.4 铷原子双光子电离的完全测量

1.4.1 历史背景

1.4.2 数据采集及光电子角分布（电子云）影像的形成

1.4.3 原子光电离参数的确定

1.5 本章小结

参考文献

第2章 双通道光电离及量子干涉测量

2.1 量子干涉的基本概念及历史回顾

2.2 光电子角分布的相位控制

2.3 实验方法

2.3.1 双色激光场实验装置及调整

2.3.2 相位延迟盒

2.3.3 紫外与可见光相位差的测量

2.3.4 实验条件与实验程序

……

第3章 激光光谱学的几个专题

第4章 分子的红外多光子离解

第5章 光学与激光技术

第6章 非接触光学层析成像

附录

主要名词术语英汉对照表

《光场中的原子分子及激光技术》系统论述了原子多光子电离的相关理论基础和研究方法，详细讨论了用光电子成像装置测量光电子角分布来研究原子光电离的特征，重点讲述了如何在实验上获得电子云影像并由此确定原子光离化参数以及研究奇偶宇称跃迁过程的量子干涉，本书还以相当的篇幅介绍了原子激光光谱和分子红外多光子离解研究的某些专题，详细讨论了无多普勒展宽高分辨激光光谱学的基本原理与研究方法。光学与激光技术方面的内容包括激光测距、风洞流场全息干涉测量以及法布里-珀罗干涉仪（标准具）在光波长与光谱线宽测量、激光纵模选择等方面的原理及应用。最后一章介绍在光学层析成像领域的最新研究成果，并详细阐述了基于激光二维扫描系统和CCD照相机的非接触光学层析成像实验装置及其在光学漫射层析成像和光学荧光层析成像中的应用。
《光场中的原子分子及激光技术》读者范围包括从事原子分子物理、激光光学、光物理、光化学和光学层析成像研究的广大科技工作者，以及相关专业的大学教师、研究生与大学生。