出版社:电子工业出版社
年代:2016
定价:119.0
本书反映了等离子体物理相关领域最新的研究进展,深入阐述了等离子体物理和化学的基本原理。书中应用基本理论来分析各种常见等离子体源的放电状态,包括计算等离子体参数及分析等离子体参数与控制参数的相关关系。本书还讨论了半导体材料的刻蚀,薄膜沉积,离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用,具有实际参考价值。全书共18章,内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体,以及气体放电的动理论等。