颜勤礼碑技法与临创
颜勤礼碑技法与临创封面图

颜勤礼碑技法与临创

施志伟等, 编

出版社:上海科学技术文献出版社

年代:2008

定价:15.0

书籍简介:

本丛书共8分册,分别介绍了历史上著名的8个碑帖中行书、楷书的集字创作。分别按点画、部首等分步骤介绍该字体的技法等。

书籍规格:

书籍详细信息
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9787543935006
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出版地上海出版单位上海科学技术文献出版社
版次1版印次1
定价(元)15.0语种简体中文
尺寸38装帧平装
页数印数
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书籍信息归属:

颜勤礼碑技法与临创是上海科学技术文献出版社于2008.04出版的中图分类号为 J292.113.3 的主题关于 楷书-书法-教材 的书籍。