出版社:上海科学技术文献出版社
年代:2008
定价:15.0
本丛书共8分册,分别介绍了历史上著名的8个碑帖中行书、楷书的集字创作。分别按点画、部首等分步骤介绍该字体的技法等。
书籍详细信息 | |||
书名 | 颜勤礼碑技法与临创站内查询相似图书 | ||
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出版地 | 上海 | 出版单位 | 上海科学技术文献出版社 |
版次 | 1版 | 印次 | 1 |
定价(元) | 15.0 | 语种 | 简体中文 |
尺寸 | 38 | 装帧 | 平装 |
页数 | 印数 |
颜勤礼碑技法与临创是上海科学技术文献出版社于2008.04出版的中图分类号为 J292.113.3 的主题关于 楷书-书法-教材 的书籍。