书籍简介:

本书论述了薄膜技术的基础理论，介绍了各种真空镀膜技术原理、真空镀膜工艺及应用特点。全书共分10章，主要内容有：薄膜与表面技术基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、化学气相沉积（CVD）技术、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、表面与薄膜分析检测技术。

书籍目录:

1薄膜与表面技术基础理论

2真空蒸发镀膜

3真空溅射镀膜

4真空离子镀膜

5真空卷绕镀膜

6化学气相沉积CVD技术

7离子注入与离子辅助沉积技术

8ITO导电玻璃镀膜工艺

9薄膜工的测量与监控

10表面与薄膜分析检测技术

参考文献

内容摘要:

　　本书共分10章，系统地阐述了真空镀膜技术的基本概念和基础理论、各种薄膜制备技术、设备及工艺、真空卷绕镀膜技术、ITO导电玻璃真空镀膜工艺，尤其重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术，如反应磁控溅射镀膜技术、中频磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜技术等；还详细介绍了薄膜沉积及膜厚的监控与测量以及表面与薄膜分析检测技术等方面的内容。　　本书具有很强的实用性，适合于真空镀膜行业、薄膜与表面应用、材料工程、应用物理以及与真空镀膜技术有关的行业从事研究、设计、设备生产操作与维护的技术人员，也适用与真空镀膜

书籍规格:

书籍详细信息
书名	真空镀膜技术与工艺站内查询相似图书
丛书名	真空工程技术丛书
	9787502450205 如需购买下载《真空镀膜技术与工艺》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息，请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN
出版地	北京	出版单位	冶金工业出版社
版次	1版	印次	1
定价(元)	59.0	语种	简体中文
尺寸	21 × 0	装帧	平装
页数		印数	2000

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书籍信息归属:

真空镀膜技术与工艺是冶金工业出版社于2009.9出版的中图分类号为 TN305.8 的主题关于真空技术－镀膜的书籍。