书籍简介:

本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM（Design for Manufacturing），集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用本书作为教科书或参考资料。

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	9787302452331 如需购买下载《纳米集成电路制造工艺》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息，请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN
出版地	北京	出版单位	清华大学出版社
版次	2版	印次	1
定价(元)	79.0	语种	简体中文
尺寸	26 × 19	装帧	平装
页数		印数	2000

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书籍信息归属:

纳米集成电路制造工艺是清华大学出版社于2016.出版的中图分类号为 TN405 的主题关于纳米材料－集成电路工艺的书籍。