书籍简介:

真空技术和物理学的进步紧密相关，目前已经是表面科学、半导体应用、高能粒子加速器、核聚变研究装置和宇宙开发领域不可缺少的技术。当前人类面临的四大课题：环境、能源、生命和新材料，这些课题的解决，无一例外都需要真空技术。针对这些情况，编写编写了本书，主要内容如下：真空只是概论；真空密封；影响真空度的要素；真空系统；典型的薄膜生长方式。

作者介绍:

郭方准，1970年生，理学博士（日本大阪市立大学）.回国前任日本同步辐射光科学中心（SPring-8）研究员，现任大连交通大学教授、中国科学院大连化学物理研究所研究员。主要荣誉：中国科学院百人计划（2009）国家千人计划（2010）中国侨联特聘专家（2011）辽宁省攀登学者（2012）主要获奖：第七届表面界面和纳米技术国际会议青年科学家奖（2003）日本文部科学大臣奖（2008）主要著作：《Frontal Semiconductor Research》Nova Science Publishers， Inc.ISBN：1-60021-210-7.（USA 2006）.

书籍目录:

第1章真空知识概论

1.1 什么是真空

1.2 真空的发现和理论基础

1.3 几个重要的概念

1.4 真空技术的应用

第2章真空密封

2.1 永久密封

2.2 非永久密封

2.3 真空法兰

2.4 真空导入要素

2.5 波纹管

第3章影响真空度的要素

3.1 真空检漏

3.2 真空中的材料气体放出

3.3 真空材料的表面净化和抛光

3.4 真空系统的排气计算

第4章真空系统

4.1 真空系统的构成

4.2 真空腔体

4.3 真空泵

4.4 真空计

4.5 真空阀门

4.6 各种运动导入器

4.7 配管连接元件

第5章典型的薄膜生长方式

5.1 物理方式成膜（Physical Vapor Deposition:PVD）

5.2 化学方式成膜（Chemical Vapor Deposition:CVD）

附录

参考文献

内容摘要:

《实用真空技术》主要内容包括：真空知识概论、真空密封、影响真空度的要素、真空系统、典型的薄膜生长方式。

书籍规格:

书籍详细信息
书名	实用真空技术站内查询相似图书
	9787561170359 如需购买下载《实用真空技术》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息，请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN
出版地	大连	出版单位	大连理工大学出版社
版次	1版	印次	1
定价(元)	50.0	语种	简体中文
尺寸	19 × 13	装帧	平装
页数	148	印数	4000

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书籍信息归属:

实用真空技术是大连理工大学出版社于2012.7出版的中图分类号为 TB7 的主题关于真空技术的书籍。