出版社:吉林大学出版社
年代:2016
定价:25.0
本书主要是通过射频磁控溅射的方法,针对共掺杂p型ZnO薄膜和ZnCdO合金薄膜的制备和性能开展研究工作,利用N2/O2、Ar/O2作为溅射气体来制备B-N和P-N共掺的P型ZnO薄膜,并对其结构、光学及电学性能进行表征。同时,系统地研究了退火温度、退火气氛对薄膜的结构、性能的影响,阐明了共掺杂ZnO薄膜的P型导电机制。利用Ar/O2作为溅射气体制备了ZnCdO薄膜,并对其结构、光学及电学性能进行表征。系统地探讨了衬底温度、Cd含量对薄膜的结构、光电性能的影响规律及机制。本书可作为大中专院校半导体物理与器件相关专业的参考书,对从事ZnO半导体材料为基础制备的各种器件的从业人员有重要的指导意义。