书籍简介:

本书译自德国斯普林格出版社2004年出版的“Silicon——Evolution and Future of a Technology”，作者P.Siffert等。系统介绍了硅——地壳中含量最丰富的元素的整个发展过程，所涉及的主要内容包括硅的基本物理性质、半导体晶体材料及工业用硅的研发历史、用于电子器件和光伏发电的多晶硅技术、硅外延、薄膜、多孔层和非晶硅技术的发展、硅在研究材料缺陷研究中的作用、硅掺杂特性、硅材料中杂质特性研究、半导体功率器件、硅补偿器件、集成电路、纳电子硅技术、纳米硅光刻技术、硅传感器等。

书籍目录:

1导论：各种形式的硅

1.1引言

1.2从20世纪60年代到70年代初：能带

1.320世纪70年代：应用于硅的表面理论

1.420世纪80年代：硅的结构能

1.520世纪90年代：硅团簇与量子点的结构和电子性质

1.6未来展望

参考文献

第一部分半导体体硅晶体

……

第二部分多晶硅

第三部分外延、薄膜和多孔层

第四部分晶格缺陷

第五部分硅掺杂

第六部分某些杂志的作用

第七部分器件

第八部分对硅的补充：化合物半导体

第九部分新的研究领域

ListofContributors

内容摘要:

　　本书系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状，并指出了今后的发展方向。主要内容包括：半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容，并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等。　　本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容，并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念；系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状，并指出了今后的发展方向。其内容广泛，数据详实，可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。

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书籍详细信息
书名	硅技术的发展和未来站内查询相似图书
	9787502445362 《硅技术的发展和未来》pdf扫描版电子书已有网友提供资源下载链接,请点击下方按钮查看
出版地	北京	出版单位	冶金工业出版社
版次	1版	印次	1
定价(元)	50.0	语种	简体中文
尺寸	24	装帧	平装
页数		印数	2500

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书籍信息归属:

硅技术的发展和未来是冶金工业出版社于2009.01出版的中图分类号为 TQ127.2 的主题关于硅－研究的书籍。