出版社:电子工业出版社
年代:2005
定价:49.0
21世纪将是微电子技术及其相关产业持续发展的新世纪,本书从微加工角度出发,介绍了微加工的材料、基本工艺、结构、工艺集成、设备和制造等各个方面。其中材料部分包括了硅、薄膜材料及其制备工艺和结构,基本工艺部分包括了薄膜制备、外延、光刻、刻蚀、热氧化、扩散、离子注入、化学机械抛光(CMOS)、键合、浇铸和冲压等,结构部分包括了自对准结构、等离子体刻蚀结构、湿法刻蚀的硅结构、牺牲层结构和沉积的结构,工艺集成部分包括了互补金属氧化物半导体(CMOS)晶体管制作、双极技术、多层金属化和微机电系(MEMS)等,设备部分包括了热工艺、真空和等离子体、化学气相沉积和外延等设备,还介绍了微加工技术涉及的净化室、成品率、晶圆厂、摩尔定律等。
书籍详细信息 | |||
书名 | 微加工导论站内查询相似图书 | ||
丛书名 | 国外电子与通信教材系列 | ||
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出版地 | 北京 | 出版单位 | 电子工业出版社 |
版次 | 1版 | 印次 | 1 |
定价(元) | 49.0 | 语种 | 简体中文 |
尺寸 | 26 | 装帧 | 平装 |
页数 | 印数 | 5000 |