书籍简介:

本书的第一、二章涉及NiO材料的基本性质、NiO材料的应用及进展、制备NiO薄膜的设备及样品表征方法等基础知识，也包含本书中的主要研究内容及完成主要研究能容所用金属有机化学气相沉积（MOCVD）、磁控溅射等设备的介绍及材料与器件的表征测试方法和仪器的介绍。第三、四、五章涉及MOCVD方法制备NiO薄膜及其性能研究、磁控溅射方法制备NiO薄膜及其性能研究、NiO薄膜材料相关的光电器件研究等。其中，MOCVD方法和磁控溅射方法制备的NiO薄膜材料的不同性质在相关的光电器件中的应用有自己的特色和见解。

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	9787502282844 如需购买下载《NiO材料制备及其光电器件研究》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息，请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN
出版地	北京	出版单位	中国原子能出版社
版次	1版	印次	1
定价(元)	28.0	语种	简体中文
尺寸	24 × 17	装帧	平装
页数	112	印数	200

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书籍信息归属:

NiO材料制备及其光电器件研究是中国原子能出版社于2017.7出版的中图分类号为 TN15 的主题关于光电器件－研究的书籍。