出版社:西安交通大学出版社
年代:2017
定价:18.0
本书在总结分析国内外氧化物薄膜制备及d0磁性研究的基础上,简要介绍实验制备薄膜所用的脉冲激光沉积技术(PLD)的原理及特点,薄膜物性表征相关的技术手段XRD、SEM、XPS、AGM及SQUID,理论计算所用到的密度泛函理论基础及方法,重点介绍Sm掺杂SnO2薄膜、钙钛矿结构铌酸盐K0.5Na0.5NbO3、BaNbO3、BaNb2O6薄膜制备及d0磁性研究的实验及理论结果,以及空位缺陷在LiNbO3和LiTaO3中引入d0磁性的理论结果。