超大规模集成电路
超大规模集成电路封面图

超大规模集成电路

(日) 岩田穆, (日) 角南英夫, 著

出版社:科学出版社

年代:2007

定价:40.0

书籍简介:

本书共分两篇,第一篇为基础设计篇,主要介绍VLSI的特征及作用、VLSI的设计、逻辑电路、逻辑VLSI、半导体存储器、模拟VLSI、VLSI的设计法与构成法、VLSI的实验等;第二篇为制造工艺篇,主要介绍集成工艺、平板印刷、刻蚀、氧化、不纯物导入、绝缘膜堆积、电极与配线等。

书籍目录:

上篇基础与设计

第1章VLSI的特征及任务

1.1VLSI的概念与基本技术

1.1.1VLSI的基本技术与发明

1.1.2学科体系

1.2VLSI的种类

1.2.1按功能分类

1.2.2按器件分类

1.3半导体技术路线图

1.4对系统的影响

1.4.1计算机系统

1.4.2通信网络系统

1.4.3数字家电系统

第2章VLSI的器件

第3章逻辑电路

第4章逻辑VLSI

第5章半导体存储器

第6章模拟VLSI

第7章无线通信电路

第8章VLSI的设计方法及构成方法

第9章VLSI的测试

下篇制造工艺

第10章LSI的制造工艺及其课题

第11章集成化工艺

第12章平版印刷术

第13章腐蚀

第14章氧化

第15章掺杂

第16章淀积绝缘膜

第17章电极和布线

第18章后工序封装

引用.参考文献

内容摘要:

  本书从设计的角度出发,从基础到尖端系统的介绍VLSI,可以使大学本科生和研究生能够综合的加深对数字电路和模拟电路的理解。本书内容丰富,条理清晰,实用性强,既可供超大规模集成电路研发和设计人员及半导体生产单位管理人员使用,也可作为各院校集成电路相关专业的本科生、研究生及教师的参考书。  本书共分为上下两篇,上篇为基础设计篇,主要介绍VLSI的特征及作用、VLSI的设计、逻辑电路、逻辑VLSI、半导体存储器、模拟VLSI、VLSI的设计法与构成法、VLSI的实验等;下篇为制造工艺篇,主要介绍集成工艺、平板印刷、刻蚀、氧化、不纯物导入、绝缘膜堆积、电极与配线等。  本书内容丰富,条理清晰,实用性强,既可供超大规模集成电路研发和设计人员及半导体生产单位管理人员使用,也可作为各院校集成电路相关专业的本科生、研究生及教师的参考书。

书籍规格:

书籍详细信息
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9787030202789
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出版地北京出版单位科学出版社
版次1版印次1
定价(元)40.0语种简体中文
尺寸24装帧平装
页数印数

书籍信息归属:

超大规模集成电路是科学出版社于2007.出版的中图分类号为 TN47 的主题关于 超大规模集成电路 的书籍。