出版社:科学出版社
年代:2019
定价:108.0
TSV(ThroughSiliconVia,硅通孔)三维集成技术以TSV互连和芯片堆叠技术为支撑,通过TSV垂直互连实现同质或异质芯片间的垂直集成与信号传输。TSV垂直互连突破了平面集成在信号传输和功能密度方面的技术瓶颈,可望实现微系统的数据传输速度和存储容量数量级的提高,并大幅度降低系统体积、重量和功耗,被认为是半导体技术超越摩尔定律发展的一大引擎。本书介绍了TSV三维集成技术的理论、技术和应用,包括TSV集成制造方法、关键工艺机理、制造技术、三维互连电学设计、热管理理论和方法,测试方法、并介绍了硅转接板、存储器及信息处理模块、MEMS等多种应用;本书还综述了TSV技术发展重点和前沿领域。
书籍详细信息 | |||
书名 | TSV三维集成理论、技术与应用站内查询相似图书 | ||
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出版地 | 北京 | 出版单位 | 科学出版社 |
版次 | 1版 | 印次 | 1 |
定价(元) | 108.0 | 语种 | 简体中文 |
尺寸 | 24 × 17 | 装帧 | 精装 |
页数 | 264 | 印数 |