书籍简介:

本书是关于在玻璃基片温度400℃和650℃之间，于准冷壁反应器进行常压化学气相沉积的研究。讨论了TiCl4-NH3-H2体系TiN常压化学气相沉积（APCVD）的动力学。此外，本书还研究了沉积条件对TiN薄膜生长速度及其性能的影响。按照本书中方法制备的厚膜具有79%—90%的红外反射率，在可见光区域具有良好的中性色调，是良好的调光隔热薄膜。

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书籍详细信息
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	9787539046532 如需购买下载《TiN薄膜常压化学气相沉积的研究》pdf扫描版电子书或查询更多相关信息，请直接复制isbn,搜索即可全网搜索该ISBN
出版地	南昌	出版单位	江西科学技术出版社
版次	1版	印次	1
定价(元)	30.0	语种	简体中文
尺寸	26 × 19	装帧	平装
页数		印数	1000

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书籍信息归属:

TiN薄膜常压化学气相沉积的研究是江西科学技术出版社于2012.12出版的中图分类号为 TB43 的主题关于光学薄膜－研究的书籍。