等离子体科学技术及其在工业中的应用

第1章 绪论

1.1 等离子体的定义

1.2 等离子体科学和技术发展的历史

1.3 等离子体科学和技术的三个方面及发展状况

1.3.1 等离子体科学和技术的主要方面

1.3.2 等离子体科学和技术发展的状况

1.4 等离子体的性质

1.4.1 等离子体的准电中性

1.4.2 德拜屏蔽和德拜长度

1.4.3 等离子体的振荡和振荡频率

1.4.4 等离子体参量A

1.4.5 等离子体判据

1.4.6 电子温度和离子温度

1.4.7 沙哈方程

1.5 电磁场对带电粒子运动行为的影响

1.5.1 带电粒子在电场中的运动

1.5.2 带电粒子在磁场中的运动

1.5.3 带电粒子在恒定电、磁场中的运动

1.5.4 工业等离子体的磁约束

1.6 等离子体辐射

第2章 等离子体的发生

2.1 等离子体的主要发生方法

2.1.1 气体放电法

2.1.2 射线辐照法

2.1.3 光电离法

2.1.4 激光等离子体

2.1.5 热电离法

2.1.6 激波等离子体

2.2 汤生放电理论

2.2.1 汤生电离系数

2.2.2 电子雪崩

2.2.3 气体击穿

2.2.4 汤生第一电离系数a

2.3 气体击穿——罗可夫斯基理论

2.3.1 空间电离对放电的影响

2.3.2 自持放电的稳定过程

2.4 巴邢定律

2.5 击穿电压的影响因素

2.6 气体放电的相似定律

2.6.1 相似放电中各种参量之间的关系

2.6.2 相似放电中基本过程之间的关系

第3章 辉光放电及其特点

3.1 辉光放电的基本特征

3.2 辉光放电的组成区域

3.2.1 阴极区

3.2.2 过渡区

3.2.3 正柱区

3.2.4 阳极区

3.2.5 阴极位降实验规律

3.3 应用性短间隙异常辉光放电过程解析

3.3.1 放电区结构变化及电位分布特点

3.3.2 阴极区过程分析

3.3.3 阳极鞘层

3.3.4 等离子体鞘

3.4 高频辉光放电应用解析

3.4.1 高频等离子体的发生方法

3.4.2 高频等离子体反应装置的等效电路

3.4.3 电场频率对气体放电机制的影响

3.4.4 高频放电的效率

3.4.5 利用高频放电的原因

3.4.6 阻抗匹配网络

3.4.7 高频电极的自偏压

3.4.8 电位分布和高频鞘

3.4.9 等离子体电位

3.5 微波放电等离子体简介

3.5.1 微波等离子体的发生方法

3.5.2 电子回旋共振等离子体源

3.5.3 微波等离子体的特征

第4章 大气压条件下的等离子体放电

4.1 介质阻挡放电的特性和作用

4.1.1 介质阻挡放电的特性

4.1.2 介质阻挡放电的电压和电流特性

4.2 介质阻挡放电的主要参量

4.3 介质阻挡放电的机制

4.3.1 介质阻挡放电的击穿机理

4.3.2 介质阻挡放电的电场强度

4.3.3 微放电的主要特性和一些参量的关系

4.4 位移电流

4.5 介质阻挡放电的电子能量控制

4.6 介质阻挡放电的理论模拟计算

4.7 介质阻挡放电中自由基和准分子的形成

第5章 低温等离子体中的基础过程

第6章 溅射制膜

第7章等离子体化学气相淀积（PCVD）

第8章等离子体聚合和等离子体引发聚合

第9章高分子材料的等离子体表面改性

第10章金属材料等离子体表面改性

第11章等离子体诊断

《等离子体科学技术及其在工业中的应用》由中国轻工业出版社出版。《等离子体科学技术及其在工业中的应用》有以下特点1.理论上《等离子体科学技术及其在工业中的应用》力求内容广泛，逻辑性强，内容涉及低温等离子体的种类，各种等离子体发生的机理及特点，等离子体基本动力学过程，及常用等离子体诊断和等离子体工业应用，尤其是在印刷包装行业中的技术应用。2.作者关注到等离子体科学和技术的发展，努力将低温等离子体物理及材料制备、相关放电装置及诊断等内容详尽陈述。同时作者亦将本人和所在实验室二十多年来的一些通过国家鉴定或已公开的科研成果编入了本著作，以此丰富教材内容。3.结合近年来功能薄膜技术的快速发展，本著作将溅射离子镀膜、电子枪蒸发镀膜，各种离子源与等离子体源的粒子产生、它们之间的作用和发展关系等纳入本著作中进行论述，目的是增强与完善人们对等离子体溅射离子镀膜工作的完整认识。4.结合目前人们往往只注重处理效果或成膜质量与放电宏观参数之间的关系，如放电电压、电流、气体压强、放电频率等，而忽略等离子体的微观参数，如电子温度、密度、离子温度、密度等，本著作在力所能及的范围内论述并强调了微观参数的重要性，并且把“等离子体诊断”单独作为一章节，对通用的诊断方法进行了详尽的论述。