出版社:科学出版社
年代:2006
定价:44.0
本书作者对于MOS晶体管模型有很深刻的理解。第一章涉及2/3D工艺和器件仿真,以此作为理解半导体结构内部行为的有力工具。在接下来的章节中,作者详细讨论了PSP和EKV模型的主流发展,比较了基于物理的MOSFET模型和通常用于射频电路的基于测量的模型,这些比较包括相关的经验模型和测量模型。在后续的章节中,作者讨论了小尺寸MOSFET器件的改善方法。最后,介绍了诸如VHDL-AMS和Verilog-A等硬件描述语言,说明了前述不同模型的实际可实现性及标准化。
"Foreword
HiroshiIwai
Introduction
WladekGrabinski,BartNauwelaersandDominiqueSchreurs
1
2/3-Dprocessanddevicesimulation.Aneffectivetoolforbetterunderstandingofinternalbehavior
ofsemiconductorstructures
DanielDonoval,AndrejVrbicky,AlesChvala,andPeterBeno
2
PSP:Anadvancedsurface-potential-basedMOSFETmodel
R.vanLangevelde,andG.Gildenblat
3
EKV3.0:AnadvancedchargebasedMOStransistormodel.
Adesign-orientedMOStransistorcompactmodelfornextgenerationCMOS
MatthiasBucher,AntoniosBazigos,FrancoisKrummenacher,Jean-MicehlSallese,andChristianEnz
4
Modellingusinghigh-frequencymeasurements
DominiqueSchreurs
5
EmpiricalFETmodels
IltchoAngelov
6
ModelingtheSOIMOSFETnonlinearities.
Anempiricalapproach
B.Parvais,A.Siligaris
7
CircuitlevelRFmodelinganddesign
NobuyukiItoh
8
Onincorporatingparasiticquantumeffectsinclassicalcircuitsimulations
FrankFelgenhauer,MaikBegoinandWolfgangMathis
9
CompactmodelingoftheMOSFETinVHDL-AMS
ChristopheLallement,FrancoisPecheux,AlainVachouxandFabienPregaldiny
10
CompactmodelinginVerilog-A
BorisTroyanovsky,PatrickO’HalloranandMarekMierzwinski
Index
"
本书国外电子信息精品著作(影印版)系列之一,内容丰富,从主流模型的讨论到小尺寸器件模型和量子效应的介绍,从模型参数的提取方法到模型在硬件描述语言中的应用等方面都作了详细的论述。本书对设计工程师和器件工程师都有很好的参考价值。 器件的模型一直是模拟/射频集成电路工程师关心的问题。是否能建立一个尽可能反映器件行为的模型关系到整个集成电路设计的成败。本书内容丰富,从主流模型的讨论到小尺寸器件模型和量子效应的介绍,从模型参数的提取方法到模型在硬件描述语言中的应用等方面都作了详细的论述。本书对设计工程师和器件工程师都有很好的参考价值。
书籍详细信息 | |||
书名 | 模拟/射频集成电路晶体管级建模站内查询相似图书 | ||
丛书名 | 微纳技术著作丛书 | ||
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出版地 | 北京 | 出版单位 | 科学出版社 |
版次 | 影印本 | 印次 | 1 |
定价(元) | 44.0 | 语种 | 英文 |
尺寸 | 24 | 装帧 | 平装 |
页数 | 印数 |
模拟/射频集成电路晶体管级建模是科学出版社于2007.01出版的中图分类号为 TN710 ,TN431.1 的主题关于 模拟集成电路-晶体管-建立模型-英文 ,射频电路:集成电路-晶体管-建立模型-英文 的书籍。