三氧化钨光催化剂制备及应用

第1章 绪论参考文献第2章 光催化反应原理2.1 光化学基本原理2.1.1 光化学反应2.1.2 电子跃迁2.2 半导体光催化反应理论2.2.1 半导体光催化的理论基础2.2.2 光催化反应热力学分析2.2.3 光催化反应动力学分析2.2.4 光催化反应机理参考文献第3章 三氧化钨的制备方法3.1 普通WO3的制备方法3.1.1 普通WO3的制备方法3.1.2 普通法所得WO3的表征3.2 高活性WO3的制备方法3.2.1 固相法3.2.2 液相法3.2.3 气相法3.2.4 超声化学法3.3 制备WO3其他方法参考文献第4章 复合半导体光催化剂4.1 半导体复合意义4.2 半导体复合类型4.2.1 半导体-半导体复合4.2.2 半导体-绝缘体复合4.2.3 复合半导体薄膜4.3 半导体复合方法4.4 半导体WO3/α.Fe2O3复合体系4.4.1 光催化反应机理4.4.2 比较光催化剂活性4.4.3 复相催化剂WO3/α.Fe2O3/W的组成与COD、色度去除率的关系4.4.4 复相光催化剂用量与COD、色度去除率的关系4.4.5 试液的pH值与COD、色度去除率的关系4.4.6 光照时间与COD、色度去除率的关系4.5 半导体WO3与稀土氧化物复合体系4.5.1 WO3/CeO2复合体系4.5.2 Y2O3/WO3复合体系4.6 半导体WO3与TiO2复合体系4.6.1 热处理温度对催化剂形貌及其光催化活性的影响4.6.2 WO3/TiO2.NRs的物性4.6.3 WO3/TiO2.NRs的光催化活性4.7 半导体WO3与CdS复合体系4.7.1 催化剂的组成与COD、色度去除率的关系4.7.2 复相催化剂用量与COD、色度去除率的关系4.7.3 试液的pH值与COD、色度去除率的关系4.7.4 光照时间与COD、色度去除率的关系参考文献第5章 金属离子掺杂光催化剂5.1 钇离子掺杂WO3光催化体系5.1.1 Y3+掺杂WO3样品的晶体结构5.1.2 掺杂样品表面性质的XPS谱分析5.1.3 掺杂样品的UV.Vis漫反射光谱性质5.1.4 光催化分解水析氧活性5.2 La3+掺杂WO3光催化剂5.2.1 La3+掺杂WO3的晶体结构5.2.2 La3+掺杂WO3样品光催化活性5.3 Eu3+掺杂WO3光催化剂5.3.1 催化剂的表征5.3.2 铕掺杂对RB在WO3上吸附量的影响5.3.3 pH对光催化降解效率的影响5.3.4 铕掺杂对WO3光催化活性的影响5.4 Tb3+掺杂WO3光催化剂5.4.1 Tb3+/WO3光催化材料的结构表征5.4.2 Tb3+掺杂对WO3光催化降解率的影响5.4.3 Tb3+掺杂量对WO3光催化降解率的影响5.4.4 焙烧温度对WO3光催化降解率的影响5.4.5 溶液pH值对Tb.WO3光催化降解率的影响5.5 Dy掺杂WO3光催化剂5.5.1 光降解中间产物的色谱及质谱分析5.5.2 不同光照时间后RB的UV.Vis光谱5.6 Gd和TiO2掺杂WO3光催化剂5.6.1 催化剂的表征5.6.2 Gd、TiO2掺杂对RB在WO3上吸附量的影响5.6.3 pH对WO3和Gd/TiO2/WO3光催化活性的影响5.6.4 Gd、TiO2掺杂及其掺杂量对WO3光催化活性的影响参考文献第6章 三氧化钨光催化剂应用6.1 在处理无机污染物领域中的应用6.1.1 无机阴离子或气体有害物质的降解6.1.2 金属离子的光催化还原6.1.3 无机合成6.2 在处理有机污染物领域中的应用6.2.1 有机物的光催化降解6.2.2 光催化氧化降解染料废水6.2.3 光催化氧化降解造纸废水6.2.4 光催化氧化技术处理一般工业废水6.2.5 光催化氧化技术处理渗滤液的研究6.2.6 光催化氧化技术降解水面有机污染物膜6.2.7 光敏剂协助光催化氧化法对处理厂的二级废水进行消毒6.2.8 光催化有机合成6.3 在光解水制氢方面应用6.3.1 掺杂Ce的WO3样品的晶体结构6.3.2 掺杂样品表面性质的XPS谱分析6.3.3 掺杂样品的UV.Vis漫反射光谱性质6.3.4 WO3及不同Ce掺杂量WO3样品的光致发光性质6.3.5 Ce/WO3光解水析氧的催化活性参考文献

《三氧化钨光催化剂制备及应用》第1章阐述了光催化技术发展过程；第2章主要阐述光催化反应原理；第3章着重阐述三氧化钨光催化剂制备方法；第4章讲述复合半导体光催化剂；第5章讲述金属离子掺杂光催化剂；第6章讲述三氧化钨光催化剂应用。本书是笔者根据多年从事光催化技术科研和教学经验，并参考国内外该领域的众多科研论文及图书资料编著而成。本书由崔玉民、李慧泉、张坤著。 《三氧化钨光催化剂制备及应用》从光催化原理出发，介绍了三氧化钨光催化剂的制备及其在复合、掺杂等条件下光催化性能的变化，还介绍了三氧化钨光催化剂在染料、造纸等有机污染物处理方面的应用，《三氧化钨光催化剂制备及应用》对于从事光催化材料及相关应用领域的技术人员有很好的参考价值。本书由崔玉民、李慧泉、张坤著。