书籍简介:

本书是“电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著”之一。书中系列介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用实例和发展前景，特别详细介绍了投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成等。本书可作为微电子设备专业领域的科技人员和从事半导体、微机械等微细加工领域研究的科技人员的技术参考书。

书籍规格:

书籍详细信息
书名	光学投影曝光微纳加工技术站内查询相似图书
丛书名	电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著
	9787563916696 《光学投影曝光微纳加工技术》pdf扫描版电子书已有网友提供资源下载链接,请点击下方按钮查看
出版地	北京	出版单位	北京工业大学出版社
版次	1版	印次	1
定价(元)	47.0	语种	简体中文
尺寸	26	装帧	平装
页数	302	印数	2000

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书籍信息归属:

光学投影曝光微纳加工技术是北京工业大学出版社于2006.10出版的中图分类号为 TN405 ,TH761.8 的主题关于光学投影系统－电子束光刻的书籍。