光学投影曝光微纳加工技术

书籍简介:

本书是“电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著”之一。书中系列介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用实例和发展前景，特别详细介绍了投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成等。本书可作为微电子设备专业领域的科技人员和从事半导体、微机械等微细加工领域研究的科技人员的技术参考书。

书籍规格:

书籍信息归属:

光学投影曝光微纳加工技术是北京工业大学出版社于2006.10出版的中图分类号为 TN405 ,TH761.8 的主题关于 光学投影系统－电子束光刻 的书籍。