真空镀膜
真空镀膜封面图

真空镀膜

李云奇, 编著

出版社:化学工业出版社

年代:2011

定价:60.0

书籍简介:

本书共十一章,内容包涵了真空镀膜中物理基础,各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求,各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控,真空镀膜工艺对环境的要求等。

书籍目录:

第1章 真空镀膜概论第2章 真空镀膜技术基础第3章 蒸发源与溅射靶第4章 真空蒸发镀膜第5章 真空溅射镀膜第6章 真空离子镀膜第7章 离子束沉积与离子束辅助沉积第8章 化学气相沉积第9章 薄膜的测量与监控第10章 薄膜性能分析第11章 真空镀膜技术中的清洁处理参考文献

内容摘要:

《真空镀膜》由李云奇编著,本书突出近代技术进步、注重系统、强调实用性、突出丛书指导思想而重新编写的。本书的内容能提高读者在真空镀膜工程上解决实际问题的能力,是一本有一定深度及针对性,更有通用性的科技书籍。 本书可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用,亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。 《真空科学技术丛书:真空镀膜》是本着突出近代真空镀膜技术进步,注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章,内容包涵了真空镀膜中物理基础,各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求,各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控,真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有权威性、实用性和通用性。 《真空科学技术丛书:真空镀膜》可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用,亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。

书籍规格:

书籍详细信息
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丛书名真空科学与技术丛书
9787122127808
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出版地北京出版单位化学工业出版社
版次1版印次1
定价(元)60.0语种简体中文
尺寸26 × 19装帧平装
页数印数

书籍信息归属:

真空镀膜是化学工业出版社于2011.12出版的中图分类号为 TB43 的主题关于 真空技术-镀膜工艺 的书籍。