出版社:高等教育出版社
年代:2005
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本书旨在综合介绍近年来微纳米加工技术的进展。全书共分为5章以微纳米加工的关键技术为主线,即微纳米光刻技术,其中包括光学曝光加工,电子束曝光加工,聚焦离子束加工,微纳米图形转移技术,微纳米图形复制技术,重点介绍这写技术的特点,典型设备,关键工艺技术,与其他类似技术的比较,近年来的新发展,未来的发展趋势。在介绍中以国际上近年来发表的文献为基础,包括作者近十余年来在这一领域的研究成果和经验。每一种技术的介绍着重解释清楚基本概念。不偏重于深奥的理论,而侧重于阐述实际应用中所遇到的问题和解决办法。本书的最后一章为微纳米加工技术的应用,包括了当今最热门的高科技领域,如微纳米电子学,高密度磁存储,微机电系统,生物芯片与纳米技术。介绍微纳米加工技术在这些领域的所起的关键作用。全书各章都附有详细的参考文献。本书最后附有中英文名词对照与索引。为读者进一步参阅国外文献资料提供了方便。本书的读者对象为大专院校高年级研究生,大学教师,从事微电子工艺,微系统技术与纳米技术的科学工作者及工程技术人员,从事微电子工艺技术,超大规模集成电路工艺技术的从业人员。