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(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点－84.7 ℃)，提纯SiHCl3采用的方法为___________________________。 (3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)： ①装置B中的试剂是________，装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_________________________________。
分馏
浓硫酸
使滴入烧瓶中的SiHCl3汽化
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