选择题（每小题只有一个选项符合题意）

1．氧化还原反应与四种基本反应类型的关系如下图所示，则下列化学反应属于阴影部分的是（ ）

A．Cl2 + 2KBr===Br2 + 2KCl

B．2NaHCO3\s\up7(△(△)Na2CO3 + H2O + CO2↑

C．4Fe(OH)2 + O2 + 2H2O===4Fe(OH)3

D．2Na2O2 + 2CO2===2Na2CO3 + O2

2．下列各组物质中，前者为强电解质，后者为弱电解质的是（ ）

A．硫酸，硫酸镁 B．碳酸，碳酸钠

C．食盐，酒精 D．碳酸氢钠，醋酸

3．已知X2、Y2、Z2、W2四种物质的氧化能力为W2＞Z2＞X2＞Y2，下列氧化还原反应能发生的是（ ）

A．2NaW + Z2===2NaZ + W2 B．2NaX + Z2===2NaZ + X2

C．2NaW + Y2===2NaY + W2 D．2NaZ + X2===2NaX + Z2

4．下列叙述正确的是（ ）

A．金属单质在氧化还原反应中总是作还原剂

B．非金属单质在氧化还原反应中总是作氧化剂

C．钠原子在氧化还原反应中失去1个电子，而铝原子失去3个电子，所以钠的还原性小于铝

D．金属元素被还原时一定生成金属单质

5．下列化学变化中，物质发生还原反应的是（ ）

A．CCO2 B．CO2CO C．FeCl2FeCl3 D．H2SO4BaSO4

6．下列各化学反应的离子方程式中，有错误的是（ ）

A．氢氧化铝与盐酸反应：Al(OH)3 + 3H+===Al3+ + 3H2O

B．氧化铝溶于氢氧化钠溶液：Al2O3 + 2OH－===2AlO + H2O

C．碳酸钠与稀硫酸反应：CO+ 2H+===CO2↑+ H2O

D．氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液：Al(OH)3 + 3OH－===AlO + 3H2O

7．在电子工业中，制印刷电路时，常用氯化铁溶液作为铜的"腐蚀液"，该过程发生的反应为：